传统的dvu光刻机因为光源分辨率限制，达到28纳米的时候，继续往下花费的制造成本、时间成本、精力成本都很大。

    就比如当前全球想要使用duv光刻机去生产14纳米的芯片，那就只能采用重复曝光技术。

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