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正文 第333章 研发光刻机
芯片光刻机,也就是掩模对准曝光机,原理其实类似底片重印,利用光刻机发出的光,通过具有图形的光罩,对涂有光刻胶的薄片(就是掩膜)曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,使光罩上的图形复印到薄片上,从而让薄片具...

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